用得較多的是磁控濺射、中頻濺射、直流濺射、RF濺射和離子束濺射。特征：在真空室內充入放電所需要的惰性氣體(如ya氣)，在高壓電場(chǎng)作用下氣體分子因電離而產(chǎn)生大量正離子。帶電離子被強電場(chǎng)加速，便形成高能量的離子流轟擊蒸發(fā)源材料(稱(chēng)為靶)。在離子轟擊下，金屬表面不銹鋼鍍鈦電話(huà)，蒸發(fā)源材料的原子將離開(kāi)固體表面，以高速度濺射到基片上并沉積成薄膜。RF(射頻)濺射RF濺射使用的頻率約為13.56MHz，它不需要熱陰極，能在較低的氣壓和較低的電壓下進(jìn)行濺射。

PVD涂層（鍍膜）技術(shù)原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，金屬表面不銹鋼鍍鈦公司，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)電離，在電場(chǎng)的作用下，使被蒸發(fā)物質(zhì)或其他反應物沉積在工件上。涂層性質(zhì)（如硬度、結構、耐化學(xué)和耐溫性、結合力）可以被jing確地控制。（2）工藝特點(diǎn)：在PVD工藝中的高純度固體涂層材料（金屬如鈦、鉻和鋁）既可通過(guò)加熱或通過(guò)離子轟擊（濺射）來(lái)得到蒸發(fā)。同時(shí)添加反應性氣體（例如氮氣或含碳氣體）；之后形成含金屬蒸氣的復合物，并以高度粘附性薄涂層沉積在工具或零部件上。以恒定速度旋轉固定在幾個(gè)軸上的零件可獲得均勻的涂層厚度。

電鍍電鍍過(guò)程是將磁體接到直流電源陰極，浸入含有鍍層材料陽(yáng)離子的溶液中，陽(yáng)離子在電場(chǎng)作用下會(huì )遷移到陰極并轉化成金屬原子結晶到磁體表面。燒結釹鐵硼常用的有鍍鋅和鍍鎳，鄭州金屬表面不銹鋼鍍鈦，以及鎳銅鎳復合鍍。鋅在干燥空氣中比較穩定，在潮濕空氣或含氧的水中則會(huì )生成碳酸鋅薄膜，可延緩鋅的腐蝕速度，金屬表面不銹鋼鍍鈦選哪家，但在酸堿鹽溶液、海洋性大氣、高溫高濕空氣中耐腐蝕性較差，鈍化處理可顯著(zhù)提升鋅鍍層的耐蝕性。鎳容易與空氣中的氧形成極薄的鈍化膜，在常溫下對大氣、堿和一些酸有很好的耐腐蝕性，因此鍍鎳成為燒結釹鐵硼zui普遍的電鍍方式。